製造設備
Facility
合成生産用設備
反応蒸留釜
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GL2000L4基K-11, K-20, K-95, K-100
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1500L1基K-99
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1400L1基K-77
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1300L1基K-89
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1000L1基K-04
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600L3基K-02, K-15, K-85
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300L3基K-01, K-13, K-27
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200L2基K-19, K-90
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100L1基K-18
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SUS2000L3基K-70, K-71, K-72
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SUS+テフロンライニング100L1基K-22
反応釜
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GL2100L1基K-87
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2000L8基K-09, K-10, K-12, K-25, K-26, K-91, K-93, K-94(晶析釜）
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200L2基K-97,K-98(晶析釜)
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100L1基K-17
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SUS2000L2基K-60, K-96(受器)
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50L3基K-03, K-23, K-24
中圧・低温反応釜（-90℃，0.95MPa）
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SUS316L300L1基K-16
中圧反応釜（0.95MPa）
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ハステロイ1500L1基K-21
遠心分離機
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36インチSUS10基C-19, C-22, C-23, C-25, C-26, C-28, C-29, C-30, C-32, C-35
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36インチゴムライニング1基C-27
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20インチSUS1基C-31
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20インチハステロイ1基C-33
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0.8L SUS1基C-34
ろ過真空式乾燥機
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SUS1500L1基D-17
コニカルドライヤー
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GL1000L1基D-23
減圧箱型乾燥機
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減圧箱型乾燥機8基D-16, D-19, D-22, D-24, D-25, D-27, D-28, D-30
常圧箱型乾燥機
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常圧箱型乾燥機5基D-14, D-18, D-20, D-21, D-26
粉砕機
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ジェットミル5台SJ-1, SJ-2, SJ-3, SJ-4, SJ-3-FS-2
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フェザーミル2台S-5, S-7
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アトマイザー2台SA-1, SA-3
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パワーミル1台S-6
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ミルスターダム1台SA-4
混合機
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Ｖ型混合機2台
加圧ろ過機
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単板式SUS7基
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単板式テフロン6基
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多段式1基
その他 / 合成生産用設備
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分子蒸留装置1基
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ロータリーエバポレーター5基
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カラムクロマト装置4基SUS製 2基・ガラス製 2基
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ナトリウムアミド製造装置1式
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冷凍機3基
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クリーンルーム (クラス100,000)12室
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窒素分離装置1基
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接触酸化法＋膜分離法排水処理設備1式
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局所排気装置10基
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自動マイクロ波ペプチド合成装置1台
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ガス吸収塔5基
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カプセル充填機1台
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精製水製造装置1基
試験・分析機器
高速液体クロマトグラフ
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高圧グラジェントシステム液体クロマトグラフ法4台
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低圧グラジェントシステム液体クロマトグラフ法6台
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アイソクラティックシステム液体クロマトグラフ法2台
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UHPLC液体クロマトグラフ法3台
ガスクロマトグラフ
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ヘッドスペースサンプラー（FID）ガスクロマトグラフ法3台
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オートサンプラー（FID）ガスクロマトグラフ法4台
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TCDガスクロマトグラフ法3台
その他 / 試験・分析機器
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フーリエ変換赤外分光光度計赤外吸収スペクトル測定法1台
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紫外可視分光光度計紫外可視吸光度測定法2台
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ＫＦ水分測定装置水分測定法1台容量滴定、電量滴定
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電位差滴定装置定量法1台
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旋光度計旋光度測定法2台
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融点測定装置融点測定法2台局方温度計使用
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pH測定器pH測定法1台
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アッベ屈折計屈折率測定法1台
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電気炉強熱残分、重金属、ヒ素試験等2台
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粒度分布測定装置1台レーザー湿式、乾式両用
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精密電子天秤7台
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恒温恒湿器安定性試験2台
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示差走査熱量計1台
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粉末Ｘ線回折装置1台
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全有機体炭素計(TOC計)1台
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ふるい振とう器1台
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光学顕微鏡2台
