製造設備

合成生産用

反応蒸留釜
 GL
2000L
3基
1500L
2基
 
1400L
1基
1000L
1基
 
600L
3基
300L
2基
 
200L
1基
100L
1基
 SUS
2000L
5基
1000L
2基
 
300L
1基
 
 
 パイレックス
100L
2基
   
反応釜
 GL
2100L
1基
2000L
8基
 
600L
1基
200L
2基
 SUS
2000L
2基
 
 
低温中圧反応釜(-90℃,0.95MPa)
 SUS
300L
1基
 
 
遠心分離機
 36インチSUS      
10基
 36インチゴムライニング      
1基
 20インチSUS      
1基
 20インチハスチロイ      
1基
ろ過真空式乾燥機
 SUS1500L
1基
コニカルドライヤー
 GL1000L
1基
減圧箱型乾燥機
6基
常圧箱型乾燥機
7基
粉砕機
 ジェットミル
5台
 フェーザーミル
1台
 アトマイザー
1台
 パワーミル
1台
 ハンマーミル
1台
 V型混合機
2基
加圧ろ過器
 単板式SUS
9基
 単板式テフロン
2基
 多段式
1基
分子蒸留装置
1基
ロータリーエバポレーター
4基
カラムクロマト装置
3基
ナトリウムアミド製造装置
1式
冷凍機
1基
クリーンルーム(クラス100,000) 併設
8室
窒素分離装置
1基
接触酸化法排水処理設備
1式
局所排気装置
8基

試験・分析機器

高速液体クロマトグラフ 液体クロマトグラフ法
19
オートサンプラー:4台
高圧グラジェントシステム:1
低圧グラジェント:1
ガスクロマトグラフ ガスクロマトグラフ法
12
ヘッドスペースサンプラー:1台
オートサンプラー:1
TCD:2
フーリエ変換赤外分光光度計 赤外吸収スペクトル測定法
2
 
紫外可視分光光度計 紫外可視吸光度測定法
2
 
KF水分測定装置 水分測定法
2
容量滴定、電量滴定
電位差滴定装置 定量法
1
 
施光度計 旋光度測定法
1
 
融点測定装置 融点測定法
2
局方温度計使用
pH測定器 pH測定法
4
 
アッベ屈折計 屈折率測定法
1
 
マッフル炉 強熱残分、重金属、ヒ素試験等
2
 
粒度分布測定装置  
2
レーザー:湿式、乾式両用
タップ密度測定器  
1
 
精密電子天秤  
8
 
恒温恒湿器 安定性試験
3
 
示差走査熱量計  
1
 
HPLC:UV−VIS3次元検出器  
1
 
粉末X線回折装置  
1